波段覆盖:ArF(氟化氩准分子激光) 193nm、KrF(氟化氪准分子激光)248nm、XeCl(氯化氙准分子激光)308nm、I-line(汞灯 i 线(也叫 I 线)) 355nm、H-line(汞灯 h 线)405nm、G-line(汞灯 g 线)436nm。这个区域是半导体曝光设备的主场,ASML 光刻机、液晶面板曝光机、激光退火设备都离不开紫外光学薄膜。
典型膜系产品:Stepper AR/HR,193nm、248nm 紫外增透膜G/H/I 线带通滤光片、紫外反射镜308nm ELA 激光 AR 膜、355nm 激光增透膜、紫外边缘滤光片下游应用:光刻机、面板曝光、激光退火、紫外杀菌、激光切割。紫外波段对膜层材料、真空洁净度要求极高,膜层吸收、应力控制,是工艺最大难点。